4MV加速器實驗室主要依托于一臺4UH Pelletron靜電加速器。于1982年從美國國家靜電公司（NEC）進口，1986年6月通過驗收。當時，4MV加速器功能定位于離子束分析應用，建有四條束線終端。利用PIXE終端、掃描質子微探針終端、RBS終端,在材料、生物、環境科學分析應用中開展了大量的研究工作。2012-2014年對掃描質子微探針終端進行了升級改造，新建了掃描質子微探針4LB-I型多功能信號探測和數據獲取系統，擴大了離子束分析的范圍。新建了專用的高溫離子束輻照裝置和離子束輻照裝置。同時，對4MV加速器的水電氣系統、加速系統、真空系統、控制系統進行了改造，更換加速管、輸電鏈等關鍵部件，改造后的4MV加速器實驗室具有高溫離子束輻照靶室、掃描質子微探針(SPM) 靶室、PIXE靶室、常規離子束分析靶室、多功能超高真空靶室五條終端。

1、離子種類：H⁺、He⁺、α、Ar⁺、Kr⁺、Xe⁺等氣態源的離子；

2、加速電壓：0.5 MV~4 MV，連續可調；

3、束流強度：1 nA~5 μA， 連續可調。

4、束斑Φ3mm，輻照靶室掃描面積30×30mm；微束靶室截取束斑Φ20~500μm，最小束斑Φ1μm

元素分析、離子束輻照以及其它可協商確定的特殊離子束應用測試等。如：1、離子束分析(PIXE、PIGE、RBS、ERD、NRA)2、全元素分析：H~U   ERD：  Z=1,  H，He，深度分布分析   PIGE： 2Z14 Li, B, F, Na, Mg, Al, Si   PIXE:  6 Z   C,N,O…；及元素濃度分布  3、離子束輻照，輻照溫度：-195℃~950℃；掃描范圍：30*30 mm2

樣品尺寸10mm*10mm*10mm；固體；不含揮發液體、放射性、腐蝕性。